答案及解析：[填空题]光刻的工艺流程为：清洗烘干→涂底→____→软烘→____→后烘→‍____→硬烘→____→检测。（注：本题请选填A/B/C/D A.显影 B.旋涂光刻胶 C.刻蚀 D.对准曝光）

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[填空题]光刻的工艺流程为：清洗烘干→涂底→____→软烘→____→后烘→‍____→硬烘→____→检测。（注：本题请选填A/B/C/D A.显影 B.旋涂光刻胶 C.刻蚀 D.对准曝光）

Tags：学堂在线清华大学柔性电子技术(2020春)单元测试网课课后答案

答案解析：

╋纠错

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