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[单选题]关于涂布光刻胶过程说法错误的是oiN答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
A、涂胶机不需要抽真空oiN答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
B、硅圆片在涂胶机中要高速旋转,以在表面形成均匀的光刻胶薄膜oiN答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
C、近年采用正光刻胶的越来越多oiN答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
D、涂布好光刻胶的硅圆片,要在烘箱中轻微加热固化再进入曝光程序
答案解析:

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