答案及解析：[单选题]下面有关技术磁化过程机制描述错误的是( )。 A畴壁的迁移是通过磁矩方向改变实现的。 B磁畴旋转的结果使稳定在原磁化方向和磁场方向间总能量最小的角度上。 C缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一

问题：

[单选题]下面有关技术磁化过程机制描述错误的是( )。
A畴壁的迁移是通过磁矩方向改变实现的。
B磁畴旋转的结果使稳定在原磁化方向和磁场方向间总能量最小的角度上。
C缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一。
D畴壁从杂质脱离,引起退磁能降低。