[单选题]光刻工艺的基本过程包括涂胶、曝光、显影、（ ）、腐蚀、去胶fsR答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
A研磨fsR答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
B抛光fsR答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
C坚模fsR答案窝(daanwo.com)-大学生作业答案及考资分享平台
D切削