学堂在线清华大学材料学概论(2021春)课后作业题答案
- 人们经常用磁矩来描述磁性，磁矩的基本单元是原子磁矩，其中原子核外电子具有轨 2021-01-26
- 在磁化过程中，磁畴会首先发生可逆的壁移，随后在磁场继续增大的情况下发生不可 2021-01-26
- 亚铁磁性可以用离子的超交换作用模型来解释，而超交换作用要求材料为化合物而 2021-01-26
- 薄膜是几维材料？ 零维 一维 二维 三维 2021-01-26
- 按照经典的分类，膜厚小于___膜的为薄膜 A1mm B0.1mm C10μm D1μm 2021-01-26
- 关于薄膜和厚膜，说法错误的是 A薄膜一般不能自立，只有依附基体而存在；厚膜通常 2021-01-26
- 对于干法成膜和湿法成膜方法的描述不正确的是 A干法成膜在气相中进行，湿法成 2021-01-26
- 对于物理吸附和化学吸附，说法正确的是 A物理吸附的结合力是分子间作用力，具有 2021-01-26
- 真空的特点不包括 A压强低 B分子密度小 C平均自由程大 D没有任何气体分子 2021-01-26
- 按照真空区域的划分，10-5~10-9Pa属于什么真空区间 A中真空 B高真空 C超高真 2021-01-26
- 物理气相沉积（PVD）中，旋转靶材或者基板的主要目的是 A使得所镀薄膜的厚度均匀 2021-01-26
- 下列哪一种泵能达到的真空度最高 A机械泵 B扩散泵 C涡轮分子泵 D溅射离子泵 2021-01-26
- 获取单晶薄膜需要哪些条件 A基板清洁，不能吸附各种气体杂质 B温度要高 C真空 2021-01-26
- MOCVD指的是 A有机金属化学气相沉积 B光化学气相沉积 C等离子化学气相沉积 2021-01-26
- 磁控气体放电，磁场的作用是： A提高电子的能量 B维持体系的低真空 C利用磁场改 2021-01-26
- 气体放电的伏安特性曲线分为若干的区，离子镀膜在哪个区 A电晕放电区 B正常辉 2021-01-26
- 物理气相沉积(PVD)分好几类，下列技术哪一个不属于PVD A真空蒸镀 B射频溅射 C 2021-01-26
- 等离子体增强化学气相沉积中等离子体的作用是： A将反应物中的气体分子激活成 2021-01-26
- 干法刻蚀一般通过气体放电产生离子或者活性基对薄膜进行刻蚀，干法刻蚀可以实 2021-01-26
- 关于湿法刻蚀，说法错误的是 A湿法刻蚀是各向同性刻蚀 B湿法刻蚀可以除去表面 2021-01-26
- 反应离子刻蚀中，无论何种材料都能实现化学刻蚀的是等离子体的哪种成分 A正离 2021-01-26
- 铜的互连技术普遍采用大马士革工艺，大马士革工艺中用到哪种平坦化技术 A低压 2021-01-26
- 薄膜图形化有哪些方法 A填平法 B蚀刻法 C掩模法 D篆刻法 2021-01-26
- 下面哪种薄膜可用在刀具上 A硬质膜 B透明膜 C磁性膜 D超导膜 2021-01-26
- 超硬材料（硬度超过40GPa）按化学键可以划分为三类：金属键、离子键和共价键，其中_ 2021-01-26